Lerenlaseruitlijningstechnieken
Het garanderen van de uitlijning van de laserstraal is de primaire taak van het uitlijningsproces.Dit kan het gebruik van extra optica vereisen, zoals lenzen of vezelcollimatoren, vooral voor diode- offiberlaserbronnen.Voordat u met laseruitlijning begint, moet u bekend zijn met de laserveiligheidsprocedures en ervoor zorgen dat u bent uitgerust met een veiligheidsbril die geschikt is voor het blokkeren van lasergolflengten.Bovendien kunnen voor onzichtbare lasers detectiekaarten nodig zijn om de uitlijning te vergemakkelijken.
In delaseruitlijningmoeten de hoek en de positie van de straal gelijktijdig worden geregeld.Dit kan het gebruik van meerdere optica vereisen, de uitlijningsinstellingen ingewikkelder maken en veel bureaubladruimte in beslag nemen.Met kinematische montages kan echter een eenvoudige en effectieve oplossing worden gekozen, vooral voor toepassingen met beperkte ruimte.
Figuur 1: Parallelle (Z-vouw) structuur
Figuur 1 toont de basisopstelling van de Z-vouwstructuur en toont de reden achter de naam.De twee spiegels die op twee kinematische steunen zijn gemonteerd, worden gebruikt voor hoekverplaatsing en zijn zo gepositioneerd dat de invallende lichtstraal het spiegeloppervlak van elke spiegel onder dezelfde hoek raakt.Om de opstelling te vereenvoudigen, plaatst u de twee spiegels op ongeveer 45°.In deze opstelling wordt de eerste kinematische steun gebruikt om de gewenste verticale en horizontale positie van de balk te verkrijgen, terwijl de tweede steun wordt gebruikt om de hoek te compenseren.De Z-vouwstructuur is de voorkeursmethode voor het richten van meerdere laserstralen op hetzelfde doel.Bij het combineren van lasers met verschillende golflengten moeten mogelijk een of meer spiegels worden vervangen door dichroïsche filters.
Om dubbel werk in het uitlijningsproces te minimaliseren, kan de laser op twee afzonderlijke referentiepunten worden uitgelijnd.Een eenvoudig draadkruis of een witte kaart gemarkeerd met een X zijn zeer nuttige hulpmiddelen.Plaats eerst het eerste referentiepunt op of nabij het oppervlak van spiegel 2, zo dicht mogelijk bij het doel.Het tweede referentiepunt is het doel zelf.Gebruik de eerste kinematische standaard om de horizontale (X) en verticale (Y) posities van de straal op het initiële referentiepunt aan te passen, zodat deze overeenkomt met de gewenste positie van het doel.Zodra deze positie is bereikt, wordt een tweede kinematische beugel gebruikt om de hoekafwijking aan te passen, waarbij de laserstraal op het eigenlijke doel wordt gericht.De eerste spiegel wordt gebruikt om de gewenste uitlijning te benaderen, terwijl de tweede spiegel wordt gebruikt om de uitlijning van het tweede referentiepunt of doel nauwkeurig af te stemmen.
figuur 2: Verticale (Figuur 4) structuur
De figuur-4-structuur is complexer dan de Z-vouw, maar kan een compactere systeemindeling bieden.Net als bij de Z-vouwstructuur, maakt de indeling in figuur 4 gebruik van twee spiegels die op bewegende beugels zijn gemonteerd.In tegenstelling tot de Z-vouwstructuur is de spiegel echter gemonteerd in een hoek van 67,5°, wat een “4″-vorm vormt met de laserstraal (Afbeelding 2).Deze opstelling maakt het mogelijk dat de reflector 2 weg van het pad van de bronlaserbundel wordt geplaatst.Net als bij de Z-Fold-configuratie is delaserstraalmoet worden uitgelijnd op twee referentiepunten, het eerste referentiepunt op spiegel 2 en het tweede op het doel.De eerste kinematische beugel wordt toegepast om het laserpunt naar de gewenste XY-positie op het oppervlak van de tweede spiegel te verplaatsen.Een tweede kinematische beugel moet dan worden gebruikt om de hoekverplaatsing te compenseren en de uitlijning op het doel nauwkeurig af te stemmen.
Ongeacht welke van de twee configuraties wordt gebruikt, zou het volgen van de bovenstaande procedure het aantal iteraties dat nodig is om het gewenste resultaat te bereiken tot een minimum moeten beperken.Met de juiste gereedschappen en apparatuur en een paar eenvoudige tips kan het laseruitlijnen aanzienlijk worden vereenvoudigd.
Posttijd: 11 maart 2024